Informe del 7 de diciembre de Golden Ten Data: Según la plataforma interactiva, el proyecto de fabricación de placas de máscara de litografía de Guanshi Technology está en proceso de construcción. Se espera que la producción en masa de placas de máscara de litografía de 45 nm se logre en 2025 y la producción en masa de placas de máscara de litografía de 28 nm se logre en 2028. Después de alcanzar la plena capacidad de producción, se producirán más de 12,500 placas de máscara de semiconductores al año.
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Guanshi Technology: se espera que la producción en masa de la versión de máscara de luz de 28nm se logre en 2028
Informe del 7 de diciembre de Golden Ten Data: Según la plataforma interactiva, el proyecto de fabricación de placas de máscara de litografía de Guanshi Technology está en proceso de construcción. Se espera que la producción en masa de placas de máscara de litografía de 45 nm se logre en 2025 y la producción en masa de placas de máscara de litografía de 28 nm se logre en 2028. Después de alcanzar la plena capacidad de producción, se producirán más de 12,500 placas de máscara de semiconductores al año.